Nanoinženýři Chicagské univerzity a přidružených laboratoří Argonne National Laboratory poblíž Chicaga ve státě Illinois, objevili nový postup tvorby nanomateriálů, který by mohl vést ke snadné výrobě každodenní elektroniky příštích generací. Tímto postupem je možné vyrobit materiály, které naleznou uplatnění v mnoha různých zařízeních, od LED displejů až po fotodetektory a solární články. Podle badatelů tento postup představuje nezbytný krok mezi experimenty s materiály a praktickým uplatněním nových nanomateriálů. Základem dnešní elektroniky jsou miniaturní tranzistory, které jsou vyráběny po miliardách postupem zvaným fotolitografie. Právě díky snadné aplikaci tohoto procesu máme k dispozici levné notebooky a chytré telefony. Použití fotolitografie má ale svá omezení. Tímto způsobem lze zpracovat jenom omezený počet materiálů. Fotolitografie byla původně navržena pro křemík, ale po půl století vývoje a dosažení mnoha obdivuhodných úspěchů je už křemíková elektronika u konce s dechem. Vědci teď hledají nové materiály a také nové výrobní postupy. Mezi slibné materiály pro budoucí elektroniku náležejí právě nanomateriály v podobě nepatrných krystalů kovů nebo polovodičů. Takové materiály mají unikátní a užitečné vlastnosti, zároveň ale není snadné je ekonomicky přijatelným způsobem zpracovat do podoby potřebné pro výsledné zařízení. Nová technologie nese název DOLFIN. Yuanyuan Wang z Chicagské univerzity a jeho tým s tímto postupem dosahují kvality výsledných materiálů, která je srovnatelná se současnými nejmodernějšími postupy. Tato technologie obchází nutnost použití šablony z organického polymeru, která je nezbytná při klasické fotolitografii. Novou technologii je možné využít ke zpracování mnoha různých materiálů, včetně polovodičů, kovů, oxidů nebo magnetických materiálů.
