Na výstavišti v Mnichově se po dvou letech opět připravuje populární Mezinárodní veletrh elektroniky, elektronických prvků, systémů a aplikací Electronica 2016. Koná se sice až od 8. do 11. listopadu, ale o stavu příprav přijeli už v červnu informovat do Prahy na tiskovou konferenci čelní představitelé Mnichovských veletrhů, Angela Marten, ředitelka veletrhu a Nicole Schmitt, ředitelka projektové skupiny. Přinesly s sebou i statistiku vývoje světového trhu elektroniky, podle které celosvětový obrat v posledních letech pravidelně roste přibližně o 0,2 trilionu eur. Nárůst, tentokrát v počtu vystavovatelů, se dá očekávat i na samotném veletrhu Electronica. Do zahájení zbývá ještě poměrně dlouhé období a vystavovatelů stále přibývá. V době konání tiskové konference jich bylo přihlášeno už na 2700 z 52 zemí celého světa a dá se tak očekávat, že bude překonána laťka z minulého veletrhu (v roce 2014 se zúčastnilo veletrhu 2737 vystavovatelů, počet návštěvníků dosáhl 73 000). Velkému zájmu vystavovatelů vychází veletržní správa vstříc přidaným dalším výstavním pavilonem, kterým plocha narostla z předchozích 133 000 m2 v minulém roce na letošních 143 000. Mezi vystavovateli najdeme letos i 22 společností z České republiky, a to jednak v samostatných expozicích, jednak ve společné expozici CzechTrade. Při porovnání velikosti naší republiky s ostatním světem je to poměrně slušná účast. Ukazuje jak na vyspělost našich firem, tak i na dobrou organizační práci našeho zástupce Mnichovských veletrhů, brněnské s. r. o. Expo-Consult+Service. A nyní, pokud jde o tematiku veletrhu. Tak jako samotná elektronika, tak i veletrh zasahují svým zaměřením do všech zájmových oblastí, ale přesto centrem pozornosti se letos v Mnichově stává automobilová elektronika, vestavné systémy, elektronika pro medicínu, IT Industry, Wireless systémy, efektivnost osvětlení a rámcově otázky energetické efektivnosti a bezpečnosti, včetně kybernetické bezpečnosti. Tato témata jsou pak i námětem konferencí, pořádaných za spolupráce oborového svazu průmyslu elektrotechniky a elektroniky ZVEI i panelových přednášek v rámci diskusních fór. Protože v čase do pořádání veletrhu se doprovodný program může ještě upravovat, doporučujeme pro aktualizaci informací využívat stránek www.electronica. de nebo www.expocs.cz. A pokud jde o jednotlivé elektronické prvky a systémy, pak letošní rok by se mohl stát určitým předělem na cestě další miniaturizace a nárůstu hustoty elektronických systémů. Po poměrně delší době, kdy se výrobci elektroniky nemohli dočkat u základní projekční technologie ve výrobě polovodičů výraznějšího kvalitativního posunu, přichází nyní u mikrolitografie období s reálnou možností uplatnění nového postupu na vlnové délce v oblasti extrémně ultrafialové EUV. Ta by při 13,5 nm mohla nahradit dosavadní litografický postup v UV pásmu s vlnovou délkou 193 nm. O této technologii jsme již částečně informovali při vývoji technologie Laser- -Produced-Plasma u firmy TRUMPF, která připravuje pro mikrolitografická zařízení vhodný světelný zdroj na bázi laserem vytvářené plazmy. Primární zesílení laserového paprsku vychází tu od běžného 10kW CO2 laseru cestou přes čtyři laserové zesilovače. Výsledný výstup paprsku pak ve vakuu ionizuje drobné kapičky cínu, které při frekvenci 50 000 kapiček za sekundu proudí ze speciálního cínového generátoru. Na kapičkách vzniká tak plazma v oblasti EUV, propojením dílčích kapičkových efektů přes kolektor vzniká už dostatečný osvitový nástroj v EUV spektru pro vlastní litografii. Pak přichází na řadu už výrobci elektroniky s procesem, kdy přes masku EUV zdroj osvětluje čipovou destičku, známou spíše pod označením wafer, opatřenou už předem fotolakem, která poté působí jako negativ zobrazovaných struktur. Přitom TRUMPF není jediný, kdo na EUV systémech pracuje. Obdobně tu postupuje např. i japonský Gigaphoton Inc., na EUV systémech pracují i IBM, Intel a další. Co je ale zajímavé přímo u našeho západního souseda, v době, kdy se ověřuje praktická využitelnost EUV mikrolitografie na vlnové délce 13,5 nm, na které se pracovalo drahná léta, přichází Fraunhoferovy instituty ILT a IOF v rámci projektu Beyond EUV s myšlenkou už na další vyšší stupeň rozlišení mikrolitografie při vlnové délce 6,7 nm. Využít se má přitom obdobného postupu, jako jsme si ukázali na postupu od firmy TRUMPF, jen místo cínového generátoru s terčem pro laserové paprsky byly by zde užity slitiny gadolinia nebo terbia. Za podpory průmyslových partnerů a výrobců mikrolitografických systémů ASML a Carl Zeiss SMT by základní části systému mohly být hotové už ke konci letošního roku . /jš/
